OP-320硫酸鹽光亮鍍錫
OP-320硫酸鹽鍍錫添加劑
一.?特點:
1.?鍍層結(jié)晶細致,均勻,光亮,呈銀白色。
2.?具有良好的抗腐蝕性和抗氧化性。
3.?生產(chǎn)條件范圍較寬,鍍液穩(wěn)定,易于操作和控制。
4.?該電解液配方既可掛鍍也可滾鍍。
5.?鍍件經(jīng)長期存放后,其可焊性能依舊飽滿。
材料名稱 |
掛 ????鍍 |
滾 ?????鍍 |
硫酸亞錫(分析純) |
30克/升 |
15克/升 |
硫酸(分析純) |
100毫升/升 |
100毫升/升 |
OP-320開缸劑 |
40-50毫升/升 |
40-50毫升/升 |
OP-320光亮劑 |
2毫升/升 |
1—4毫升/升 |
溫 ??????度 |
8—15℃ |
5—10℃ |
電 流 密 度 |
1—3.5安/平方分米 |
1—3.5安/平方分米 |
時 ??????間 |
4--6分鐘 |
10—20分鐘 |
攪 ??????拌 |
陰極移動15—20次/分鐘 |
8-12轉(zhuǎn)/分鐘 |
二.配方和操作條件:
三.鍍液配制(以50升槽液為例):
因硫酸亞錫不易溶解,所以先計算好鍍液去離子水的容量,將其中的一半倒入鍍槽內(nèi),在不斷攪拌下緩慢地加入全部硫酸,此時槽內(nèi)溫度迅速上升,然后在不斷過濾降溫至200C左右,加入硫酸亞錫。可加入另一半煮沸的去離子水或用加熱設(shè)備,通常在不斷攪拌下約需1小時才能使硫酸亞錫全部溶解,隨后使槽液降到150C至180C,加入需要量的(配缸)光亮劑,攪拌均勻。新配溶液比重在波美18左右。該電解液經(jīng)2-4小時電解后,經(jīng)試鍍才正式生產(chǎn)。
當正常生產(chǎn)時,為了獲得滿意的鍍層,鍍件在進入鍍槽前必須保持良好的清潔度。因此,鍍件必須經(jīng)除油、清洗、酸洗(30—50毫升硫酸/升)后才能鍍錫。
四.?溶液保養(yǎng):
?????1.根據(jù)產(chǎn)量情況,在鍍液正常情況下每月至少分析一次,分析結(jié)果應(yīng)為:
硫酸亞錫含量大約在20克左右/升。
硫酸含量大約在160--180克左右/升。
如果缺錫、缺酸應(yīng)該分別用錫鹽(分析純)、硫酸(分析純)予以調(diào)整。
2.陰極效率降低,產(chǎn)生原因,主要是掛具接觸不良,局部電流過大?;蛱砑觿┻^量,造成大量析氫,使溶液中產(chǎn)生大量氣泡,可調(diào)整掛具接點和用電解方法解決。
3.光劑消耗量:(添加)光亮劑的消耗速度掛鍍?yōu)?/span>250-300毫升/1000安培小時,滾鍍?yōu)?/span>300-350
毫升/每次。當電鍍過程中出現(xiàn)亮度逐步下降,特別出現(xiàn)低電流密度區(qū)的亮度下降時,表明(添加)光亮劑已經(jīng)缺少,可規(guī)定量度毫升/升進行添加,但要小心避免過量。
4.雜質(zhì)影響:電鍍槽內(nèi)要避免銅、氯離子等雜質(zhì)的帶入。否則會影響鍍層質(zhì)量,嚴重時會引起陽極的鈍化。
五.處理劑使用方法:
??????處理劑用于(配缸)光亮劑、(添加)光亮劑酸性光亮鍍錫新工藝的槽液處理。酸性光亮鍍錫電解液,經(jīng)過一段時間生產(chǎn)后電解液由于二價錫的氧化、水解而變渾,這時采用一般濾紙過濾,活性炭吸附等常規(guī)方法,無法使游離膠體除去,從而影響鍍層的質(zhì)量。采用處理劑卻可在常溫下,極短時間內(nèi),除去游離膠體,從而使鍍液變清,再添加適量(配缸)光亮劑,就可恢復原來的電鍍功能,保證生產(chǎn)正常。
處理方法是:
????每升渾濁鍍液加入30ML左右處理劑,在室溫下攪拌,即出現(xiàn)棉絮狀固體物,并開始沉淀,此時鍍液變清,采用虹吸法或傾瀉法移入另一容器,再添加適量(配缸)光亮劑予以調(diào)整,即可恢復原來電鍍功能(處理劑用量根據(jù)鍍液渾濁度而定,一般為30ML/L左右)。
六.?常見故障排除方法
故障現(xiàn)象 |
生產(chǎn)原因及解決方法 |
鍍層粗糙、毛刺、陽極呈不規(guī)則溶介,并產(chǎn)生大量黑色掛灰脫落。 |
是因為硫酸濃度或硫酸亞錫濃度高,電流密度大,針對上述原因作相應(yīng)處理。 |
? 鍍層出現(xiàn)局部無鍍層 |
前處理不當,光亮劑溶介不當,(添加)光亮劑過多,應(yīng)作相應(yīng)處理,或適當添加(配缸)開缸劑。 |
復雜幾何形狀不能達到鍍復時 |
主要是主鹽(SnS4)濃度過高,可采用降低主鹽濃度,如30~40g/升就可提高均鍍能力。 |
堆錫 |
調(diào)整陰陽比例 ???陽:陰=2:1 |
溶液渾濁、鍍層粗糙、發(fā)黑 |
溶液中四價錫過高,應(yīng)用處理劑處理,然后用(配缸)光亮劑調(diào)正光亮度。 |
鍍層小電流處不夠光亮 |
光亮劑少,補充(添加)光亮劑。 |
陽極嚴重發(fā)黑 |
溶液中銅離子雜質(zhì)含量較高,應(yīng)通電處理。 |
鍍液析氫:出現(xiàn)大量小氣泡 |
(1)?由于電流密度過大 (2)?接觸不好 (3)?(添加)光亮劑過量而引起 針對上述情況作相應(yīng)處理。 |
在電解液混濁不嚴重情況下,出現(xiàn)鍍層發(fā)黑、發(fā)花 |
溶液中光亮劑組分失去平衡,應(yīng)適當添加(配缸)開缸劑。 |
光亮鍍錫時,鍍層出現(xiàn)條紋 |
是由于沒有陰極移動所致,應(yīng)納入工藝規(guī)范。 |
同一鍍槽液,掛鍍正常,而滾鍍不亮 |
只要加大工作電流(即提高電流密度)即可鍍得正常產(chǎn)品(指其他情況都屬于正常)。 |