B-80光亮掛鍍鎳

一、工藝特性：

1.?所獲得鎳鍍層含硫量為0.03%-0.05%，適宜于二層或多層鍍鎳耐蝕要求高的鍍覆，也適用于鍍鉻、青銅、金、銀金屬之光亮鎳之底層。

2.?所獲得鎳鍍層具有鏡面似的白亮光澤。

3.?消耗少，出光快。鍍液穩(wěn)定，鍍層致密，鍍鉻被覆蓋力強。

二、鍍液組成及操作條件：

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三、鍍液配制方法：

1) 預(yù)備缸里加入約60%的純凈水，加熱至50-65℃，按序加入硼酸、硫酸鎳、氯化鎳攪拌均勻使其徹底溶解。

2) 如果原材料質(zhì)量欠佳，應(yīng)加入1-2毫升/升雙氧水（稀釋后），活性碳2-5克/升，升溫至60-70℃，攪拌3-5小時，靜置沉淀。如果是優(yōu)質(zhì)鎳鹽和硼酸，則可不必用雙氧水，活性碳處理。

3) 過濾至鍍缸，加入上述之計量添加劑，調(diào)整液量。

4) 調(diào)整PH值，若低以碳酸鎳升高，反之則以稀硫酸降低。

5) 以0.2-0.4 A/dm²）電解處理約2-3小時，即可試鍍。

四、添加劑的功用及消耗量

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注意：添加劑的消耗取決于：工件基材表面狀態(tài)、所要求鍍層的光亮度和填平度、平均陰極電流密度、帶出損耗。

六、注意事項：

1) 從半光亮鎳或其它體系光亮鎳轉(zhuǎn)換到B-80光亮鎳鍍液時，原液的成分，污染度等會有差異。應(yīng)待我司試驗確認(rèn)后，再向貴司提供轉(zhuǎn)缸的適當(dāng)條件及方法。

2) 主鹽成分應(yīng)以化驗數(shù)據(jù)為依據(jù)，添加劑宜以赫氏槽試驗結(jié)果，采取定時勤加少加方式進(jìn)行。

3) 不時弱電解處理，以期除去Cu²⁺、Zn²⁺、Fe³⁺等金屬雜質(zhì)。

4) 定期大處理，否則應(yīng)以活性碳實行連續(xù)過濾。

七、其它：

?（1）除雜水

當(dāng)電鍍鋅基鑄件或塑膠電鍍時，可能會帶入較多銅鋅雜質(zhì)。請適當(dāng)加入除雜水，加入量為1-2ml/L，1ml/L的除雜水可絡(luò)合5ppm銅和10ppm鋅。

（2）除鐵粉?

當(dāng)電鍍鐵件時，通常鍍液中鐵雜質(zhì)較多，此時可加入除鐵粉，一般而言，加入0.5g/L的除鐵粉可除去120ppm鐵雜質(zhì)。